高纯气体是指气体纯度≥99.9995%，含水量＜5×10-4%的气体。
洁净厂房广泛用于电子、生物医药、精细化工、精密机械、食品、化妆品等产品生产中，不同产品生产过程中对所用高纯度气体的品种、纯度以及气体中允许的杂质浓度或气体的品质要求差异很大。所用气体品种之多、要求之严莫过于半导体工业为最为典型的了。这里对半导体工业的高纯气体作一简单介绍。
一、半导体集成电路制造用高纯气体
1.高纯气体品种，按集成电路制造使用分：
1）普通气体（又称大宗气体）。有：H2、N2、O2、Ar、He等。
2）特种气体（掺杂、外延、离子注入、刻蚀等）如：Si、SiO、Cr、Al、Mo、W等。
2.按使用时的危险性分：
1）可燃、自燃、易燃气体。如H2、CH4、H2S、NH3等。
2）有毒气体。半导体工业所用气体大多对人体有毒有害。如：PH3、ASH3、B2H6等。
3） 助燃气体。此类气体自身不燃，但与可燃物、可燃气体接触时有助燃的作用。如：O2、N2O、F2、HF等。
4）窒息性气体。此类气体性质稳定，不燃、无毒。但当空气中氧含量降低到18%时，使人因缺氧而觉呼吸困难。如：N2、Ar、CO2、He等。
5）腐蚀性气体。遇水即呈腐蚀性，但在干燥状态时不易腐蚀金属。如：HCl、PCl3、POCl3、HF等。
二、高纯气体的“三度”
1.气体纯度：气体中杂质气体的含量，通常用气体纯度的百分数表示，如：99.9999%，也用杂质气体含量的体积比如：ppm、ppb、ppt表示。
2.干燥度：气体中微量水分的含量，或称之为含湿量，通常用露点表示，如常压露点－70℃。
3.洁净度：气体中含有污染物粒子的数量，粒径为μm，数量为pc/m3。对压缩空气也用不可避免的固体残留物的多少表示，单位为mg/m3，其中包括了含油量。
